提供了三个版本的TracePro,这些版本的功能和复杂性不断提高,适用于所有用户级别以及几乎所有应用程序。随着用户需求和体验的增加,这提供了方便实用的升级途径。LC版针对标准照明和光导条应用。标准版非常适合大多数光学和照明设计,分析和杂散光任务。当需要用于纹理背光设计或生命科学应用的高级功能时,**版具有***的功能,可以对数百万个散射点和大量散射功能进行建模,以模拟生物组 织。
TracePro® 是一款享誉世界的用于光学设计,分析和优化光学和照明系统的几何光学软件。凭借其直观的CAD界面和诸如交互式优化器之类的强大功能,TracePro为用户提供了强 大的光学设计环境,并拥有较短的学习周期,从而加快了产品上市时间。
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通过用斜面,鳞甲,纹理,内部或外部几何突出物,将光源发出的光照射到一个或多个目标物上,使之具有高能效,理想的颜色和均匀性。TracePro直观的设计界面,结合表面结构,RepTile网点,2D/3D优化,可视化,真实感渲染,***的精度等功能能够帮助进行质量的显示设计。
TracePro的RepTile特色能够简单的,自动的在任意表面设计大量的微结构,这些形体的位置既可以随机设置,也可进行周期性排列,例如亮度增强膜,光导中的散射点,这些形体可以均匀分布,可以参数化,或者可以利用已有的数据文件。用户可以设定每个形体的属性,例如边数,高度,宽度,厚度,曲率半径,二次曲面系数,非球面,旋转角度。 上海杨浦优化设计Tracepro官方下载上海复光Tracepro设计优化。
坎德拉图以坎德拉或瓦特/星等表示发光或辐射强度。坎德拉图共有四种类型:Polar Candela, Iso-Candela, Rectagular Candela, and Iso-Candela.
• 偏振图绘制了入射到选定表面上的通量的偏振椭圆。颜色级别和椭圆图形显示了表面上各点的偏振度和椭圆度。
• 入射光线表提供入射到选定表面上的光线的表格输出。
•“光线历史记录表”提供了入射到选定表面上的所有光线的完整历史记录。
•“路径分类表”提供了入射到选定表面上的光线路径的可分类表,可以交互查看光线和所选路径的辐照度图。
TracePro是一套与工业设计软件可以快速而轻易接轨的光学分析软件,能提升企业对产品研发创新的能力;而其准确可靠的分析能力,使其在全球与中国台湾的市场占有率都非常的杰出,并被各项产业使用,其实际相关的应用范畴包括:
(1)显示器产业:
1、可进行背光模块内网点设计与排布,并结合优化模块对网点分布进行优化。
2、可仿真背光模块内偏振光的行为,可考虑膜层的入射角、波长与温度等。
3、可进行增透膜的光场分析。
4、可同时分析不同光波长的环境,得到 CIE/色彩结果。
5、可分析双折射效应,包括分光到一般向量或特定向量。
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坎德拉图用发光强度或瓦特/球面度来显示发光和辐射强度。TracePro里面有四种坎德拉类型图:极坐标坎德拉图,ISO标准坐标坎德拉图,直角坐标坎德拉图,ISO标准坎德拉图
偏振图绘制椭圆的偏振到选择表面的入射通量上。色彩层次和椭圆图形用来显示偏振的程度和椭圆表面上点的程度。
入射光线表格提供了在选择表面的入射光线的表格化的产出。
光线历史表格记录了在选定表面上每一次入射的完整历史记录。
路径删选表格提供了一个对于选定表面的入射光线路径可分类的表格,并且可以和你选择路径的辐照度图进行交互式查看。
光程/飞行时间分析图是对选定面对抗光程的光通量吸收或入射的专门分析。
TracePro直接导入OSLO, CodeV和Zemax的镜头设计参数,可以建立精细的透镜模型。上海杨浦优化设计Tracepro中文版
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各种各样的材料和表面特性可以应用于模型中的物体和表面。
可以指定的光学属性包括:
l 材料特性------折射率,吸收系数和双折射
l 孔径衍射
l 表面特性------反射和透射系数,表面吸收,表面散射
l 体散射
l 荧光
l 梯度折射率
l Mueller矩阵建模
l 表面光源
l 温度分布
l 薄膜叠层建模多层光学涂层,包括防反射涂层,带通滤波器和截止滤波器
它的属性还可以通过自定义参数或者从常用的材料目录来定义。当然,你也可以自己添加属性到数据库中以简化建模过程。 上海复瞻复光优化设计Tracepro国内代理
上海复瞻智能科技有限公司是一家有着先进的发展理念,先进的管理经验,在发展过程中不断完善自己,要求自己,不断创新,时刻准备着迎接更多挑战的活力公司,在上海市等地区的仪器仪表中汇聚了大量的人脉以及**,在业界也收获了很多良好的评价,这些都源自于自身不努力和大家共同进步的结果,这些评价对我们而言是比较好的前进动力,也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神,努力把公司发展战略推向一个新高度,在全体员工共同努力之下,全力拼搏将共同上海复瞻智能科技供应和您一起携手走向更好的未来,创造更有价值的产品,我们将以更好的状态,更认真的态度,更饱满的精力去创造,去拼搏,去努力,让我们一起更好更快的成长!
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